光譜共焦測量技術由于其高精度、允許被測表面有更大的傾斜角、測量速度快、實時性高、對被測表面狀況要求低、以及高分辨率的獨特優勢，迅速成為工業測量的熱門傳感器，在生物醫學、材料科學、半導體制造、表面工程研究、精密測量、3C電子等領域得到大量應用。本次測量場景使用的是創視智能TS-C1200光譜共焦傳感頭和CCS控制器。TS-C系列光譜共焦位移傳感器能夠實現0.025μm的重復精度，±0.02% of F.S.的線性精度， 30kHz的采樣速度，以及±60°的測量角度，能夠適應鏡面、透明、半透明、膜層、金屬粗糙面、多層玻璃等材料表面，支持485、USB、以太網、模擬量的數據傳輸接口。光譜共焦位移傳感器廣泛應用于制造領域，如半導體制造、精密機械制造等。門頭溝區光譜共焦制造公司
光譜共焦傳感器可以提供結合高精度和高速的新現代技術。這些特性使這些多功能距離和位移傳感器非常適合工業 4.0 的高要求。在工業 4.0 的世界中，傳感器必須能夠進行高速測量并提供高精度結果，以確保可靠的質量保證。光學測量技術是非接觸式的，于目標材料分開和表面特性，因此它們對生產和檢測過程變得越來越重要。這是“實時”生產過程中的一個主要優勢，在這種過程中，觸覺測量技術正在發揮其極限，尤其是當目標位于難以接近的區域時。光譜共焦傳感器提供突破性的技術、高精度和高速度。此外，共焦色差測量技術允許進行距離測量、透明材料的多層厚度測量、強度評估以及鉆孔和凹槽內的測量。測量過程是無磨損的、非接觸式的，并且實際上與表面特性無關。由于測量光斑尺寸極小，即使是非常小的物體也能被檢測到。因此，共焦色度測量技術適用于在線質量控制。徐州光譜共焦產品原理該技術可以采集樣品不同深度處的光譜信息進行測量。
光譜共焦傳感器專為需要高精度的測量任務而設計，通常是研發任務、實驗室和醫療、半導體制造、玻璃生產和塑料加工。除了對高反射、有光澤的金屬部件進行距離測量外，這些傳感器還可用于測量深色、漫射材料，以及透明薄膜、板或層的單面厚度測量。傳感器還受益于較大的間隔距離（高達 100 毫米），從而為用戶在使用傳感器的各種應用方面提供更大的靈活性。此外，傳感器的傾斜角度已顯著增加，這在測量變化的表面特征時提供了更好的性能。
高像素傳感器設計方案取決于的光對焦水平，要求嚴格圖象室內空間NA的眼鏡片。另一方面，光譜共焦位移傳感器的屏幕分辨率通常采用光譜抗壓強度的全半寬來精確測量。高NA能夠降低半寬，提高分辨率。因而，在設計超色差攝像鏡頭時，NA應盡可能高的。高圖象室內空間NA能提高傳感器系統的燈源使用率，使待測表層輪廊以比較大視角或一定方向歪斜。可是，NA的提高也會導致球差擴大，并產生電子光學設計優化難度。傳感器檢測范圍主要是由超色差鏡片的縱向色差確定。因為光譜儀在各個波長的像素一致，假如縱向色差與波長之間存在離散系統，這類離散系統也會導致感應器在各個波長的像素或敏感度存在較大差別，危害傳感器特性。縱向色差與波長的線性相關選用線形相關系數來精確測量，必須接近1。一般有兩種方法能夠形成充足強的色差：運用玻璃的當然散射;應用衍射光學元器件(DOE)。除開生產制造難度高、成本相對高外，當能見光根據時，透射耗損也非常高。光譜共焦技術可以實現對樣品內部結構的觀察和分析。
光譜共焦位移傳感器是一種基于光波長偏移調制的非接觸式位移傳感器。它也是一種新型極高精密度、極高可靠性的光學位移傳感器，近些年對迅速、精確的非接觸式測量變得更加關鍵。光譜共焦位移傳感器不但可以精確測量偏移，還可用作圓直徑的精確測量，及其塑料薄膜的折光率和厚度的精確測量，在電子光學計量檢定、光化學反應、生物醫學工程電子光學等領域具備大量應用市場前景。光譜共焦位移傳感器的誕生歸功于共聚焦顯微鏡研究。它們工作中原理類似，都基于共焦原理。1955年，馬文·明斯基依據共焦原理研發出共焦光學顯微鏡。接著，Molesini等于1984年給出了光譜深層掃描儀原理，并將其用于表面輪廓儀。后來在1992年，Browne等人又把它運用到共聚焦顯微鏡中，應用特殊目鏡造成散射開展高度測量，不用彩色掃描，提升了測量速度。a.Ruprecht等運用透射分束制定了超色差鏡片，a.Miks探討了運用與不一樣玻璃材質連接的鏡片得到鏡頭焦距與波長線性關系的辦法。除開具有μm乃至納米技術屏幕分辨率以外，光譜共焦位移傳感器還具備對表層質量要求低，容許更多的傾斜度和達到千HZ的輸出功率的優勢。光譜共焦技術可以對生物和材料的微觀結構進行分析。朝陽區國內光譜共焦
光譜共焦位移傳感器具有非接觸式測量的優勢，可以在微觀尺度下進行精確的位移測量。門頭溝區光譜共焦制造公司
主要是對光譜共焦傳感器的校準后的誤差進行分析。各自利用干涉儀與高精密測長機對光譜共焦傳感器開展測量，用曲面測針確保光譜共焦傳感器的激光光路坐落于測針，以確保光譜共焦傳感器在測量時安裝精密度，隨后拆換平面圖歪頭，對光譜共焦傳感器開展校準。用小二乘法對測量數據進行解決，獲得測量數據庫的離散系統誤差。結果顯示：高精密測長機校準后的離散系統誤差為 0.030%，激光器于涉儀校準時的分析線形誤差為0.038%。利用小二乘法開展數據處理方法及離散系統誤差的計算，減少校準時產生的平行度誤差及光譜共焦傳感器的系統誤差，提高對光譜共焦傳感器的校準精密度。門頭溝區光譜共焦制造公司